使用三溴化磷制备溴化氢的方法与流程

　　一种溴化氢的合成装置和方法，杂质少，使用三溴化磷，反应温和，无催化剂，反应中无易燃易爆物质，反应后无腐蚀性产物。

　　在半导体工业中，电子级溴化氢主要用于蚀刻工艺，等离子溴化氢蚀刻技术可以控制蚀刻深度和垂直度，而不会破坏臭氧层并产生温室气体，它是氟碳蚀刻气体的良好替代品。随着半导体工业的发展，对蚀刻主要工艺中使用的电子级溴化氢的纯度提出了更高的要求，因此，在制造过程中，如果杂质被污染，很容易造成芯片中电路功能的损坏，导致集成电路失效，影响几何特征的形成，因此，有必要在该过程中较好的去除溴化氢中的杂质。

　　目前，溴化氢的合成主要包括氢和溴的直接燃烧合成。直接燃烧合成方法使用氢和溴燃烧反应来获得溴化氢。虽然这种方法可以获得相对纯的溴化氢，但反应条件苛刻，喷嘴设计复杂，容易混合和不均匀，氢气容易爆炸，燃烧反应需要在600-800℃的高温下进行，或添加催化剂将反应温度降至100-120℃，但在该温度下，反应催化剂容易失活并失去其催化作用。三溴化磷水解是一种将三溴化膦滴加到水或氢溴酸中进行水解反应以获得溴化氢的方法。在实际使用中，催化剂需要频繁更换，操作复杂。溴化氢是由硫、水和溴的反应得到的。产品中含有硫酸，容易腐蚀管道，后续处理复杂。此外，硫磺易燃易爆，不易储存。溴、红磷和浓溴酸在室温下反应得到溴化氢，但反应中杂质较多，使用易燃易爆的磷，增加了反应风险；它含有大量的亚磷酸盐和水，腐蚀了后续的管道，后续的净化过程复杂。溴芳烃的取代反应产生溴化氢，溴与甲苯、二甲苯、四氢萘等芳烃的取代作用释放溴化氢气体。取代反应具有较低的溴转化率，并且该反应产生许多含有苯的芳香烃，稍后难以分离。溴化钾与磷酸共热制备溴化氢是一种利用溴化钾和浓磷酸共热生产溴化氢气体的方法。该方法在实际操作中需要强烈的加热，并且反应控制困难。

　　使用三溴化磷制备溴化氢的方法通过溴和氨气的反应产生溴化氢和氮，反应条件小于氢和溴的反应条件，不需要催化剂，不存在催化剂失活的问题。